基于同步辐射光刻的多层微纳结构制造

• 作者: 杉山进 李以贵
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 多层微纳制造 同步辐射光刻 对准工具
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 186-189
• 页数: 4页
• 分类号: TH741.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2009.02.020

摘要

高分子材料,如甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA),由于其价格相对低廉和容易加工,在集成电路和MEMS研究中受到广泛的关注.本文提出了一种基于PMMA基板的多层同步辐射光刻技术,用于制作微驱动器等有移动部件的设备.设计的多层结构包括140个单元的叉指平行电容器,每个电容器的间隔是2μm,最小尺寸是4μm,厚度是200 μm,故深宽比达到50:1.该制造方法具有高深宽比、高产出率及成本低等优点.