镓聚焦离子束研磨Cu薄膜的模拟

• 作者: 李景东 杨黎东
• 来源期刊: 云南师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 蒙特卡罗方法 溅射产额 聚焦离子束 模拟
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 物理学
• 页码范围: 50-52
• 页数: 3页
• 分类号: O47.TN304
• 字数: 1979字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9793.2009.01.011

摘要

利用TRIM模拟中的蒙特卡罗方法计算了镓(GaIlium)离子在Cu薄膜上的溅射产额.分析溅射产额对镓离子的数量、入射离子的能量和离子入射角度的依赖关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨黎东	保山高等师范专科学校计科系	2	0	0.0	0.0
2	李景东		2	0	0.0	0.0