氮化硅低温转化合成碳化硅晶须研究

• 作者: 崔曦文 张军战 张颖 蒋明学
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: Si3N4 SiC晶须 热力学 机理
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 80-83,89
• 页数: 5页
• 分类号: TB383
• 字数: 1651字
• 语种: 中文

摘要

对氮化硅转化法制备碳化硅晶须的反应过程进行了热力学分析;采用氮化硅为硅源,石墨、活性炭和炭黑为碳源,氧化硼作为催化剂,利用氮化硅转化法分别在1500 ℃、1550 ℃、1600 ℃合成碳化硅晶须,通过X射线衍射和扫描电子显微镜分析合成晶须的特征.结果表明:合成反应在1450℃以上可以发生,且随着温度的升高,平衡常数急剧增加,SiC晶须直径变大;以活性炭和炭黑等较高活性的碳源代替石墨可以提高晶须的质量和生成量,通过对晶须合成过程的分析,推测晶须的生长属于螺旋位错生长机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张颖	西安建筑科技大学材料科学与工程学院	71	240	9.0	11.0
2	蒋明学	西安建筑科技大学材料科学与工程学院	125	832	15.0	20.0
3	张军战	西安建筑科技大学材料科学与工程学院	52	232	9.0	13.0
4	崔曦文	西安建筑科技大学材料科学与工程学院	4	27	2.0	4.0