透明材料的深紫外激光三维微刻蚀工艺

• 作者: 崔健磊 徐刚 戴玉堂
• 来源期刊: 应用激光
• 学科: 工学
• 关键词: 深紫外激光 三维微刻蚀 石英玻璃 微器件
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 页码范围: 411-414
• 页数: 4页
• 分类号: TN249
• 字数: 2651字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-372X.2009.05.011

摘要

157nm深紫外激光因其波长短且具有较高的光子能量,被视为较理想的微刻蚀工具之一.介绍了157nm深紫外激光的刻蚀机理,并利用先进的157nm激光微加工设备,进行了一系列微刻蚀实验.研究了激光工艺参数对石英玻璃的刻蚀效率和表面粗糙度的影响,进行了多种三维微结构的加工试验,证实了157nm激光微刻蚀工艺在制备MOEMS器件方面的实用性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴玉堂	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	40	174	7.0	12.0
2	崔健磊	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	5	19	2.0	4.0
3	徐刚	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	30	71	6.0	8.0