深紫外/紫外薄膜材料的光学常数研究

• 作者: 易葵 范正修 薛春荣 邵建达 齐红基
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 氟化物薄膜 光学常数 包络法 迭代算法
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 2135-2139
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3412字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20093608.2135

摘要

曲线拟合,得到了6种薄膜材料在所测波段内的折射率和消光系数的色散公式和色散曲线.所得结果与文献报道的MgFz和LaF3的结果相一致,证明了结果的可靠性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	易葵	中国科学院上海光学精密机械研究所	67	518	14.0	18.0
3	范正修	中国科学院上海光学精密机械研究所	203	2312	23.0	32.0
4	薛春荣	中国科学院上海光学精密机械研究所	16	137	7.0	11.0
7	齐红基	中国科学院上海光学精密机械研究所	40	299	11.0	16.0