美光利用34 nmNAND工艺生产用于高端手机的最高密度多芯封装产品

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篇名	美光利用34 nmNAND工艺生产用于高端手机的最高密度多芯封装产品
来源期刊	电子工业专用设备	学科
关键词
年，卷（期）	2009,（2）	所属期刊栏目	公司与新品介绍
研究方向		页码范围	65-66
页数	2页	分类号
字数	2514字	语种	中文
DOI