DB-FIB中由不完全分解的Pt导致样品表面污染的解决方法

• 作者: 张玉多 李品欢 李德勇 李桂花 陈卉
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 双束聚焦离子束 离子束辅助沉积Pt电流 表面污染
• 年，卷（期）: 2009,（12）
• 所属期刊栏目: 测试与测量
• 页码范围: 20-23
• 页数: 4页
• 分类号: TN406
• 字数: 1514字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2009.12.005

摘要

双束聚焦离子束(DB-FIB)已经成为半导体工业中,尤其是失效分析(FA)工作中非常重要的工具,被广泛应用于集成电路的缺陷分析和修整、TEM(透射电子显微镜)的薄片试样制备等方面.在制备TEM样品时,为了避免后期切削时Ga离子束对表层的损伤,在Ga离子束切削样品之前往往会在样品需要观测的位置上沉积一层Pt薄膜作保护层.目前,最常用的方法是先用电子束辅助沉积(E-beam assisted deposition)的方法在样品表面镀一层Pt薄膜,然后再在其上用离子束辅助沉积(I-beam assisteddeposition)的方法镀一层较厚的Pt保护层.但是最近在TEM样品观测过程中,发现用DB-FIB制备的样品表面会出现球状或岛状的黑色颗粒,这种现象严重影响TEM对样品的分析.经EDX成分分析.该颗粒的主要成分为Pt,C,Ga..通过设计一系列的实验对黑色颗粒形成原因及解决方法进行了研究.实验结果表明,这些颗粒的出现与I-Beam Pt的沉积电流有关.采用48 pA的I-Beam电流沉积Pt会避免黑色颗粒的出现,并且对该模型作出了解释.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈卉	武汉新芯集成电路制造有限公司分析实验室	1	0	0.0	0.0
2	李桂花	武汉新芯集成电路制造有限公司分析实验室	1	0	0.0	0.0
3	张玉多	武汉新芯集成电路制造有限公司分析实验室	1	0	0.0	0.0
4	李品欢	武汉新芯集成电路制造有限公司分析实验室	1	0	0.0	0.0
5	李德勇	武汉新芯集成电路制造有限公司分析实验室	1	0	0.0	0.0