替代黑氧化处理工艺的技术概要和动向

• 作者: 蔡积庆
• 来源期刊: 印制电路信息
• 学科: 工学
• 关键词: 黑氧化处理 黑氧化替代处理工艺 蚀刻 多层,粘结 积层
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 表面涂覆
• 页码范围: 21-25
• 页数: 5页
• 分类号: TN41
• 字数: 5668字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-0096.2009.06.007

摘要

概述了黑氧化处理的问题点,利用蚀刻的铜箔粗化和替代黑氧化处理工艺的技术动向.