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TAB/COF带载体和表面处理技术
TAB/COF带载体和表面处理技术
作者:
蔡积庆
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
TAB/COF带载体
表面处理技术
细节距引线
镀铜层填充导通孔
摘要:
概述了电子元件搭载用TAB/COF带载体的制造方法和构造,以及最新带载体的表面处理开发例.
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文献信息
篇名
TAB/COF带载体和表面处理技术
来源期刊
印制电路信息
学科
工学
关键词
TAB/COF带载体
表面处理技术
细节距引线
镀铜层填充导通孔
年,卷(期)
2009,(10)
所属期刊栏目
孔化与电镀
研究方向
页码范围
25-30
页数
6页
分类号
TN41
字数
6348字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1009-0096.2009.10.007
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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(0)
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2009(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
TAB/COF带载体
表面处理技术
细节距引线
镀铜层填充导通孔
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
印制电路信息
主办单位:
印制电路行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
1009-0096
CN:
31-1791/TN
开本:
大16开
出版地:
上海市闽行区都会路2338号95号楼CPCA大厦2楼
邮发代号:
创刊时间:
1993
语种:
chi
出版文献量(篇)
5458
总下载数(次)
19
总被引数(次)
10164
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