方差阴影图中的光渗现象消除算法

• 作者: 刘学慧 吕伟伟 薛盖超
• 来源期刊: 计算机辅助设计与图形学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 阴影图 方差阴影图 光渗现象 预滤波 最小-最大阴影图
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 图形算法与技术
• 页码范围: 165-171
• 页数: 7页
• 分类号: TP391.41
• 字数: 4533字
• 语种: 中文

摘要

方差阴影图算法使用概率的方法计算像素被遮挡的上限概率,通过对深度图滤波的方法来有效地减少阴影图算法中的走样问题,但在深度比较复杂的场景中方差阴影图算法会出现光渗现象,即在应该是阴影的区域却有了亮度.文中使用最小-最大阴影图来辅助消除方差阴影图中的光渗现象,在对深度纹理进行滤波的同时生成一个最小-最大阴影图;在实时绘制场景时,利用最小-最大阴影图来辅助判断当前片元是否完全处在阴影区域内部,由此生成更真实、更准确的阴影.该算法可以很容易地添加到已有的方差阴影图算法的片元处理程序中,并且不会对原有阴影的柔和边界以及绘制的帧率产生影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕伟伟		6	57	4.0	6.0
5	刘学慧		32	648	10.0	25.0
6	薛盖超		3	46	3.0	3.0