Er2O3薄膜的光学常数和介电性能

• 作者: 刘传标 刘毅 魏爱香
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜光学 氧化铒薄膜 磁控反应溅射 光学常数 介电性能
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1724-1728
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3031字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS20092906.1724

摘要

采用射频磁控反应溅射技术,在不同的Ar/O2流量比条件下制备了系列Er2O3薄膜样品.采用椭偏光谱和紫外一可见光透射光谱测试分析技术,研究了Er2O3薄膜的折射率、消光系数、透射率和光学带隙等光学常数与制备工艺的关系.研究了不同条件下制备的Er2O3薄膜的介电常数和Ⅰ～Ⅴ特性.结果表明,Er2O3薄膜的折射率、禁带宽度和介电常数随Ar/O2流鼍比的增加而增加,而消光系数基本不随Ar:O2流量比的变化而变化.在Ar:O2流量比为7:1制备的Er2O3薄膜具有较好的物理性能,在可见红外波段其折射率约1.81,消光系数为3.7×10-6,禁带宽度5.73 eV,介电常数为10.5.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘毅	深圳大学物理科学与技术学院	32	83	6.0	8.0
2	魏爱香	广东工业大学材料与能源学院	42	197	7.0	11.0
3	刘传标	广东工业大学材料与能源学院	7	45	5.0	6.0