电子束外延生长Er2O3单晶薄膜

• 作者: 徐润 方泽波 朱燕艳 樊永良 蒋最敏 薛菲 陈圣
• 来源期刊: 江西科学
• 关键词: 分子束外延 Er2O3 介质膜
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 理论探讨
• 页码范围: 299-302
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3679.2005.04.001

摘要

使用电子束外延的方法在p型Si(001)和Si(111)衬底上,在700℃、7×10-6Torr的条件下首次实现了Er2O3单晶薄膜的生长.薄膜的结晶情况依赖于薄膜的生长温度和氧气压.在较低的温度和较低的氧气压下在薄膜内容易生成硅化铒,薄膜也趋于多晶化.而且,生长在SiO2/Si衬底上的Er2O3单晶薄膜的结晶情况和表面粗糙度比生长在清洁的Si衬底上的薄膜要好很多.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋最敏	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	24	93	5.0	9.0
2	方泽波	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	4	12	2.0	3.0
3	朱燕艳	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	4	12	2.0	3.0
4	陈圣	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	4	12	2.0	3.0
5	徐润	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	2	3	1.0	1.0
6	薛菲	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	4	4	1.0	1.0
7	樊永良	复旦大学应用表面物理国家重点实验室	8	15	3.0	3.0