铁电薄膜及其在存储器件中的应用研究现状

• 作者: 刘敬松 李惠琴
• 来源期刊: 材料导报：纳米与新材料专辑
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电薄膜 极化疲劳 制备工艺 半导体工艺
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 页码范围: 341-346
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.9

摘要

概述了铁电薄膜在非易失存储器中的应用研究现状，将铁电存储器与其他类型存储器进行了比较，针对铁电薄膜在存储器中的应用，探讨了铁电薄膜制备工艺与半导体工艺兼容性、极化疲劳、尺寸效应等几方面的问题，指出了当前研究的重点。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘敬松	西南科技大学材料科学与工程学院	6	11	2.0	3.0
2	李惠琴	西南科技大学材料科学与工程学院	3	5	1.0	2.0