脉冲宽度对镁合金微弧氧化的影响

• 作者: 姜均涛 李泽 王巧霞 马跃洲
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 脉冲宽度
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 41-43
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.451
• 字数: 3286字
• 语种: 中文

摘要

为了研究双极性脉冲微弧氧化电源脉冲宽度对镁合金微弧氧化的影响,在恒流、一定频率,占空比10%～30%对应的脉冲宽度140～430us条件下对镁合金微弧氧化进行了研究.结果发现:随着脉冲宽度的增加,起弧电压逐渐降低,膜层的成膜速率随着脉冲宽度的增加先增大,到一定值后开始减小;随着脉冲宽度的增加,膜层表面的孔洞数量减少,但孔洞尺寸增加.因此,镁合金微弧氧化过程中脉冲宽度要控制在200～300us范围内.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马跃洲	兰州理工大学材料科学与工程学院	60	493	13.0	18.0
2	李泽	兰州理工大学材料科学与工程学院	5	23	3.0	4.0
3	王巧霞	兰州理工大学材料科学与工程学院	3	19	3.0	3.0
4	姜均涛	兰州理工大学材料科学与工程学院	2	13	2.0	2.0