缓冲层对LBO晶体上1 064 nm,532 nm增透膜附着力的影响

• 作者: 吴炜 范正修 谭天亚 邵建达 郭永新
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 物理学
• 关键词: 二倍频增透膜 LBO晶体 附着力 缓冲层
• 年，卷（期）: 2009,（9）
• 所属期刊栏目: ICF与激光等离子体
• 页码范围: 1343-1346
• 页数: 4页
• 分类号: O484.41
• 字数: 2319字
• 语种: 中文

摘要

着力增强机制进行了分析.薄膜的抗激光损伤性能分析表明,SiO2缓冲层也有助于改进薄膜的激光损伤阈值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴炜	辽宁大学物理学院	20	67	5.0	7.0
3	谭天亚	辽宁大学物理学院	11	38	4.0	5.0
9	郭永新	辽宁大学物理学院	40	198	8.0	11.0
13	邵建达		10	77	5.0	8.0