Mo/Si多层膜表面保护层设计

• 作者: 佘仕凤 张众 徐达 朱京涛 王占山 王晓强 王洪昌 王风丽 秦树基 蒋励 陈玲燕
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜光学 多层膜 表面保护层 驻波电场分布 反射率
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 光学材科
• 页码范围: 160-164
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|O434
• 字数: 2291字
• 语种: 中文

摘要

为提高Mo/Si多层膜的稳定性与使用寿命,通过分析多层膜驻波电场的分布,对表面保护层及多层膜最上层材料的厚度进行优化设计,使优化后的反射率最高.计算表明,一定厚度的表面保护层总对应一个最优的最上层材料厚度.在13.36 nm波长,膜对数为50的Mo/Si多层膜10度入射的理论反射率为74.47%;当添加厚度为2.3 nm的Ru作为表面保护层,对应多层膜最上层Si的优化厚度为3.93 nm,其理论反射率为75.20%.设计结果表明,通过优化设计表面保护层,可以提高多层膜稳定性,改善多层膜性能.