去垢剂影响PSⅡ核心复合物稳定性的双重效应

• 作者: 孙婧 斡科 杜林方 黄搏
• 来源期刊: 应用与环境生物学报
• 学科: 生物学
• 关键词: 去垢剂 光系统Ⅱ核心复合物 稳定性 双重效应 叶绿素荧光
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 493-498
• 页数: 6页
• 分类号: Q945.78
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1145.2010.00493

摘要

光系统(PS)Ⅱ核心复合物分离时需要使用去垢剂.研究不同光照条件和去垢剂处理对PSⅡ核心复合物荧光发射光谱的影响.结果显示:避光放置时去垢剂存在利于PSⅡ核心复合物荧光光谱峰值相对稳定;光照处理引起PSⅡ核心复合物荧光光谱峰值下降、峰位蓝移,去垢剂十二烷基麦芽糖苷(DM)存在时荧光光谱变化小于无去垢剂时,而中性去垢剂Triton X-100和阴离子型去垢剂SDS存在时变化更为明显.说明光照处理时DM使PSⅡ核心复合物稳定性增加,而Triton X-100和SDS降低了PSⅡ核心复合物的稳定性.避光时去垢剂的增溶作用利于核心复合物的稳定,光照时去垢剂的增溶作用影响色素蛋白,导致叶绿素与蛋白结合状态发生变化,或从蛋白上脱落下来,最终影响到光能的传递.去垢剂的保护或破坏效应与光照强度、去垢剂的种类相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜林方		84	927	16.0	28.0
2	孙婧		19	10	2.0	2.0
3	斡科		2	4	1.0	2.0
4	黄搏		1	0	0.0	0.0