孔隙率对氧化锌/多孔硅光致发光的影响

• 作者: 赵波 齐红霞
• 来源期刊: 郑州大学学报（理学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 氧化锌 光致发光
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 61-63
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 1603字
• 语种: 中文

摘要

用电化学方法制备不同孔隙率的多孔硅,然后用脉冲激光沉积的方法,以多孔硅为衬底生长氧化锌(ZnO)薄膜,研究多孔硅的孔隙率对ZnO薄膜的质量和光致发光谱的影响,用X射线衍射仪和扫描电子显微镜表征ZnO薄膜的结构性质.结果表明,当多孔硅的孔隙率较大时,沉积的ZnO薄膜为非晶结构.沉积上ZnO薄膜之后,多孔硅的发光谱蓝移.由于ZnO薄膜缺陷较多,其深能级发光较强.ZnO的深能级发光与多孔硅的橙红光相叠加,得到了可见光区宽的光致发光带,呈现白光发射.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵波	徐州师范大学物理与电子工程学院	5	12	2.0	3.0
2	齐红霞	徐州师范大学物理与电子工程学院	5	12	2.0	3.0