光刻胶特性曲线参数测量的新方法

• 作者: 张洪波
• 来源期刊: 物理与工程
• 学科: 物理学
• 关键词: 光刻胶 台阶实验 光栅掩模 特性参数
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 页码范围: 29-32
• 分类号: O4
• 字数: 2066字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-7104.2010.04.010

摘要

文中通过台阶实验的数据结合光刻胶光栅掩模的槽形,得到光刻胶特性参数,利用这些参数可以模拟出任一曝光量,任一显影时间,任一空频下,光栅掩模的槽形.为今后制作符合要求的光栅提供有力依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张洪波		7	21	3.0	4.0