全息光栅制作中光栅掩模槽形形状随光刻胶特性曲线的演化规律

• 作者: 孔鹏 巴音贺希格 李文昊 韩建
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 全息光栅 非线性效应 槽深 掩模槽形 光刻胶
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 2380-2388
• 分类号: O436.1|TN305.7
• 字数: 4262字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20122011.2380

摘要

为分析光栅槽形形成的基本原理及槽形随光刻胶特性曲线的演化规律,建立了显影过程中光栅掩模槽形形成的演化模型.基于光刻胶溶解速率在不同曝光量区间的变化,将光刻胶特性曲线分成3个不同区域并分析各区域在光栅掩模槽形形成中的作用,讨论了在不同光刻胶特性曲线条件下光栅掩模槽形的演化规律.结果表明:当光刻胶非线性效应显著时,掩模槽形易形成矩形或梯形,此时槽深由原始胶厚决定;当光刻胶线性效应较显著时,槽形形成正弦形同时槽深有所减小.该模型正确反映了光栅槽形随光刻胶特性曲线变化的演化规律,为通过控制光刻胶特性曲线制作多种掩模槽形提供了理论依据及方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴音贺希格	中国科学院长春光学机密机械与物理研究所	112	817	16.0	23.0
2	孔鹏	中国科学院长春光学机密机械与物理研究所	11	38	4.0	6.0
6	李文昊	中国科学院长春光学机密机械与物理研究所	35	144	7.0	11.0
7	韩建	中国科学院长春光学机密机械与物理研究所	18	31	4.0	5.0