干涉条纹相位变化对平面全息光栅曝光的影响

• 作者: 宋莹
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 光栅 光栅曝光 数值计算 条纹相位变化 曝光对比度 掩模槽形
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: ? 激光材料和光学元件?
• 页码范围: 339-343
• 页数: 5页
• 分类号: O438.1
• 字数: 2623字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2016.03.008

摘要

为更好地评价平面全息光栅曝光系统的性能，了解干涉条纹相位变化对光栅制作的影响，基于曝光量表达式，结合光栅掩模槽形二元模型，采用理论分析和数值计算的方法，分析了条纹相位变化对曝光对比度、光栅掩模槽形和曝光量相位的影响。各种形式的干涉条纹低频漂移均会降低曝光对比度，导致掩模槽形的可控性下降，其影响具有一致性；为保证曝光对比度达到0．95，低频漂移均方根值应控制在0．05个条纹周期以内；小幅值高频振动对光栅曝光的影响可以忽略；低频漂移造成的曝光量相位误差不影响光栅的衍射特性。结果表明，为获取合格的光栅掩模，应控制光刻胶非线性和曝光量的匹配关系，并将干涉条纹低频漂移均方根值控制在1／20条纹周期以内。可将其作为评价全息光栅曝光系统稳定性的重要指标。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋莹	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	20	176	5.0	13.0