极紫外多层膜技术研究进展

• 作者: 张立超
• 来源期刊: 中国光学与应用光学
• 学科: 物理学
• 关键词: 极紫外多层膜 极紫外光刻 多层膜光栅
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 554-565
• 分类号: O484
• 字数: 10391字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.2095-1531.2010.06.004

摘要

在极紫外波段,任何材料都表现出极强的吸收特性,因此,采用多层膜实现高反射率是构建正入射式光学系统的唯一途径.本文总结了极紫外多层膜的发展进程,叙述了制备极紫外多层膜的关键技术(磁控溅射、电子束蒸发、离子束溅射)以及它们涉及的相关设备.由于多层膜反射式光学元件主要应用于极紫外光刻与极紫外天文观测,文中重点讨论了极紫外光刻系统对多层膜性能的要求,镀膜过程中的面形精度和热稳定性等问题;同时介绍了极紫外天文观测中使用的多层膜的特点,特别讨论了多层膜光栅的制备技术和亟待解决的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张立超		4	30	3.0	4.0