气压和偏流对高掺硼金刚石晶体性质的影响

• 作者: 姜辛 孙剑 屈芳 白亦真 贾福超 赵纪军
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 高掺硼金刚石膜 气体压强 偏流 热灯丝化学气相沉积 扫描电镜 X射线衍射仪 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 357-362
• 分类号: TQ164|O484.4
• 字数: 1716字
• 语种: 中文
• DOI: 10.1016/S1872-5805(09)60039-1

摘要

采用热丝化学气相沉积法,改变工作气压和偏流,在硅基片上沉积了高掺硼金刚石膜.利用扫描电镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射仪对沉积的金刚石膜表面形貌和结构进行表征.结果显示:当气体压强从3kPa降低到1. 5kPa时,金刚石膜有较平的表面形貌和和较好的晶形,薄膜的晶体性质得到良好的改善.但是继续降气体压强,从1.5kPa到 0.5kPa时,却呈现出相反的趋势.固定气体压强(1. 5kPa),改变偏流,结果表明:适当的偏流(3A)可以改善掺硼金刚石的质量,偏流较高会导致薄膜中非金刚石相增多.