基于XPS的苹果表皮残留农药界面层的氩刻分析

• 作者: 张欣艳 王乐新 王畅 赵达
• 来源期刊: 东北农业大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 苹果表皮 XPS 残留农药 深度分析
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 所属期刊栏目: 食品科学
• 页码范围: 131-134
• 分类号: O4-33
• 字数: 2143字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9369.2010.05.027

摘要

针对果皮表面残留农药进行微观深度探测及分析.结果表明,苹果表皮氧乐果及敌敌畏随施药浓度及施药时间的残留沿纵向深度变化呈现非线性规律性,主要残留部位为果实表皮的角质层区距表面8μm,氧乐果残留分布的规律性强于敌敌畏.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王乐新	黑龙江八一农垦大学文理学院	68	189	6.0	10.0
2	王畅	黑龙江八一农垦大学文理学院	55	150	7.0	9.0
3	赵达	黑龙江八一农垦大学文理学院	21	99	6.0	9.0
4	张欣艳	黑龙江八一农垦大学文理学院	38	122	6.0	9.0