Dho3l型高浓度臭氧水溶液产生设备

• 作者: 冷宏 朱玉鹏 李超群 白敏菂
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 地球科学
• 关键词: 臭氧水溶液 臭氧浓度 硅片清洗 性价比
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 13-15
• 分类号: X505
• 字数: 1472字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2010.12.003

摘要

随着超大规模集成电路的发展,高浓度臭氧水溶液产生设备成为硅片清洗的关键设备.因此大连海事大学环境工程研究所研制成功国内首台dho31系列高浓度臭氧水溶液设备,它的臭氧水浓度达到20～30 mg/L.该设备采用强电场电离放电方法,将O2和H2O电离成高浓度氧活性粒 子O2+、O3、O(1D)、O(3P)和引发剂HO2-,在引发剂HO2-作用下,O3与H2O生成高浓度臭氧水溶液.它具有臭氧水浓度高、自动化程度高、能耗低、体积小、高性价比等特点,并着重阐述了该设备的技术先进性及性能指标.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	白敏菂	大连海事大学环境工程研究所	52	615	15.0	23.0
2	冷宏		6	48	3.0	6.0
3	李超群		2	35	2.0	2.0
4	朱玉鹏		2	7	2.0	2.0