有序畴界原子结构及其迁移特征的微观相场研究

• 作者: 卢艳丽 张明义 张静 王永欣 董卫平 陈铮
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 微观相场 界面迁移,位置选择性,有序畴界 DO22(Ni3V)相
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 页码范围: 1147-1151
• 分类号: TG1
• 字数: 1582字
• 语种: 中文

摘要

利用微观相场模型研究了DO22 (Ni3V) 相间有序畴界原子层次的结构及其迁移特征.研究表明:界面的迁移性与界面结构有关.界面的迁移过程中,V原子跃迁至最近邻的Ni格点处并与之交换,原子的跃迁行为具有位置选择性.原子跃迁行为的位置选择性使得界面迁移前后界面结构保持不变.界面迁移过程及其特征可以用过渡界面来表征,每一种可迁移界面都按照自有的原子跃迁模式进行迁移,并且在迁移的过程中只形成一种独特的过渡界面,界面迁移过程中的原子跃迁模式是诱导界面迁移的热力学和动力学最优化路径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈铮		206	808	13.0	18.0
2	王永欣		129	485	10.0	15.0
3	董卫平		11	18	3.0	4.0
4	张明义		24	86	6.0	7.0
5	张静		61	462	10.0	19.0
6	卢艳丽		52	145	6.0	8.0