PG-510型单面抛光机的研制

• 作者: 刘涛 罗杨 费玖海 高慧莹
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 蓝宝石 纳米级抛光 CMP工艺
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 11-15,19
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2940字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2010.08.003

摘要

介绍了针对蓝宝石衬底表面纳米级抛光工艺而研制的PG-510单面抛光机的主要结构及其性能特点,简要论述了抛光过程中各工艺参数的控制方案,并通过实验验证了设备的主要性能指标,能够满足蓝宝石衬底表面纳米级抛光的工艺要求.