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摘要:
主要总结了电沉积制造中电铸和半导体薄膜的原理及其应用.首先分析了电铸的电流密度、波形、溶液运动形式等主要影响因素的作朋机理和目前研究状况.接着分析了电铸不均匀的原因.验证了用机械搅拌的方法可提高沉积层的均匀性.然后介绍了电铸和半导体薄膜技术在近年来的最新应用成果,包括半导体薄膜材料、LCD彩色滤光片.最后预测了该行业的发展趋势.
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文献信息
篇名 电铸和半导体薄膜电沉积的发展和应用
来源期刊 机电工程技术 学科 工学
关键词 电铸 机械搅拌 均匀性 半导体薄膜
年,卷(期) 2010,(3) 所属期刊栏目 综述
研究方向 页码范围 13-17,57
页数 6页 分类号 TQ153
字数 6644字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1009-9492.2010.03.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭钟宁 广东工业大学机电工程学院 197 1090 16.0 23.0
2 贺捷山 广东工业大学机电工程学院 1 2 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
电铸
机械搅拌
均匀性
半导体薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
机电工程技术
月刊
1009-9492
44-1522/TH
大16开
广州市天河北路663号
46-224
1971
chi
出版文献量(篇)
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总下载数(次)
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