激光预处理对Si02单层膜中缺陷的影响

• 作者: 刘晓凤 李笑 赵元安 邵建达
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 激光预处理 Si02 单层膜 光斑效应 缺陷
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1626-1630
• 页数: 5页
• 分类号: TN249|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103706.1626

摘要

采用小光斑激光预处理扫描Si02单层膜,利用激光损伤阂值的光斑效应对预处理前后SiO2单层膜中缺陷的影响进行分析,并引人缺陷阈值和缺陷密度来表征薄膜中引起损伤的缺陷.研究表明,激光预处理可以使Sio2单层膜在采用最大光斑条件下的损伤阈值提高1.6倍左右,并且激光预处理可清除薄膜中低阈值的缺陷.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵建达	中国科学院上海光学精密机械研究所	212	2131	21.0	29.0
2	赵元安	中国科学院上海光学精密机械研究所	47	315	11.0	15.0
3	刘晓凤	中国科学院上海光学精密机械研究所	10	52	4.0	7.0
4	李笑	中国科学院上海光学精密机械研究所	5	31	2.0	5.0