影响高功率光导开关临界频率热因素的数值分析

• 作者: 刘宏伟 刘金锋 李洪涛 袁建强 谢卫平 赵士操 赵越
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 光导开关 砷化镓 非线性模式 电流丝 临界频率 热传导
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 2778-2782
• 分类号: TM836
• 字数: 2847字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20102211.2778

摘要

基于时域有限差分法(FDTD)对非线性模式面结构砷化镓光导开关的热传导过程进行了数值模拟.研究了光导开关临界频率与电流丝位置、半径、数量、芯片尺寸、环境温度等参数的关系.研究表明:临界频率随电流丝半径、数量的增加,呈指数上升趋势;临界频率随着电流丝深度、芯片厚度的增加,呈指数下降趋势;临界频率在一定范围内随环境温度的增加呈线性下降趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁建强	中国工程物理研究院流体物理研究所	20	162	7.0	12.0
2	李洪涛	中国工程物理研究院流体物理研究所	64	265	8.0	14.0
3	刘宏伟	中国工程物理研究院流体物理研究所	24	157	7.0	12.0
4	刘金锋	中国工程物理研究院流体物理研究所	14	110	7.0	10.0
5	谢卫平	中国工程物理研究院流体物理研究所	68	501	14.0	19.0
6	赵越	中国工程物理研究院流体物理研究所	10	37	4.0	5.0
7	赵士操	中国工程物理研究院计算机应用研究所	7	14	2.0	3.0