深紫外光刻技术在光子晶体器件中的应用

• 作者: 刘欢 李金凤 王健
• 来源期刊: 考试周刊
• 学科: 工学
• 关键词: 深紫外光刻技术 深紫外曝光 光子晶体
• 年，卷（期）: 2010,（22）
• 所属期刊栏目: 职业技术教学与研究
• 页码范围: 173
• 分类号: TN3
• 语种: 中文

摘要

光刻技术越来越多地应用于制作光子器件中,使得光器件的体积大大缩小.本文作者研究了深紫外光刻工艺方法的基本原理及工艺过程,同时通过工艺参数优化,得到了较好的硅基光子晶体样品.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王健	沈阳化工大学信息工程学院	49	161	7.0	11.0
2	刘欢	沈阳化工大学信息工程学院	46	126	6.0	8.0
3	李金凤	沈阳化工大学信息工程学院	40	179	7.0	12.0