离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究

• 作者: 周林 戴一帆 李圣怡 沈永祥 舒谊 解旭辉
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: KDP晶体 离子束抛光 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 838-842
• 分类号: TH161
• 字数: 2389字
• 语种: 中文

摘要

为了避免传统加工过程对KDP( Potassium dihydrogen phosphate)晶体表面产生损伤、嵌入杂质等降低晶体抗激光损伤阈值的不利因素,文章探索采用离子束抛光技术实现KDP晶体的加工.本文主要分析了离子束抛光作用下KDP晶体表面粗糙度的演变过程,采用垂直入射和倾斜45°入射两种方式研究KDP晶体表面粗糙度,利用倾斜45°入射的加工方式提高了KDP晶体的表面质量,其表面均方根粗糙度值由初始的3.07 nm减小到了1.95 nm,实验结果验证了离子束抛光加工KDP晶体的可行性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴一帆	国防科技大学机电工程与自动化学院	109	1657	23.0	33.0
2	李圣怡	国防科技大学机电工程与自动化学院	186	3101	27.0	44.0
3	解旭辉	国防科技大学机电工程与自动化学院	44	582	14.0	22.0
4	周林	国防科技大学机电工程与自动化学院	32	408	12.0	19.0
5	沈永祥	国防科技大学机电工程与自动化学院	2	49	2.0	2.0
6	舒谊	国防科技大学机电工程与自动化学院	2	30	2.0	2.0