反应激光脉冲沉积法制备CoO和Co_3O_4薄膜

• 作者: 吴家亮 季振国 席俊华 曹虹 李红霞
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积 钴氧化物 禁带宽度 光学性能
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 670-673
• 分类号: TB43|TB383
• 语种: 中文

摘要

利用反应脉冲激光沉积法,以金属钴为靶材,通过改变衬底温度、反应气体氧气的流量等工艺参数,先后在玻璃衬底上成功制备了CoO薄膜以及Co3O4薄膜。通过X射线衍射（XRD）、X射线光电子能谱（XPS）、紫外-可见光吸收光谱（UV-Vis）研究了沉积工艺参数对沉积薄膜的晶体结构和光学特性的影响。结果表明,当氧气流量小于15sccm时,沉积的薄膜为岩盐矿结构的CoO,而当氧气流量大于15sccm时,沉积的薄膜为尖晶石矿结构的Co3O4。通过对紫外-可见吸收光谱的数据分析,证明CoO和Co3O4薄膜均为间接能带结构,禁带宽度分别为0.82eV和1.21eV。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曹虹	浙江大学硅材料国家重点实验室	2	1	1.0	1.0