离子注入碳对纯铁表面初始氧化行为的影响

• 作者: 刘柯钊 王茜 肖红 蒙大桥
• 来源期刊: 中国表面工程
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 碳 初始氧化 俄歇电子能谱
• 年，卷（期）: 2011,（2）
• 所属期刊栏目: 表面工程研究
• 页码范围: 65-69
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2973字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9289.2011.02.012

摘要

用俄歇电子能谱(AES)研究高真空室中纯铁和多能量叠加注碳纯铁表面与氧气吸附及初始氧化过程.纯铁表面的吸附及初始氧化的速率大于注碳纯铁表面的吸附及初始氧化的速率,离子注入碳使纯铁表面的抗氧化性能增强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒙大桥	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	32	111	5.0	9.0
2	刘柯钊	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	36	150	8.0	9.0
3	肖红	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	26	59	5.0	6.0
4	王茜	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	15	38	4.0	5.0