化学溶液沉积法制备涂层导体SmBiO3（SBO）缓冲层的研究

• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学溶液沉积法 涂层导体 SmBiO3缓冲层
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 页码范围: 246-249
• 页数: 4页
• 分类号: O511
• 语种: 中文

摘要

通过740-820℃之间进行低温成相,分别在氩气和空气中LaAlO3（LAO）单晶基底上沉积得到了有较大应用前景的涂层导体SmBiO3（SBO）缓冲层.740-800℃所得的缓冲层c轴取向良好,致密、平整、无裂纹.当温度达到820℃时,SBO表面开始出现裂缝.SBO薄膜的相组成和微结构利用XRD和SEM进行分析.研究结果表明,在Ar气氛中和空气中适宜于SBO薄膜生长的最佳温度都在770-800℃附近,在此条件下可以制备出表面平整致密SBO薄膜.