聚合物光波导端面磁流变抛光工艺

• 作者: 冯宗杰 刘勇 吴宇列 彭文强
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光(MRF) 聚合物光波导 端面抛光 表面粗糙度 插入损耗
• 年，卷（期）: 2011,（4）
• 所属期刊栏目: 紧密加工
• 页码范围: 364-369
• 分类号: TN252
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2011.04.014

摘要

光波导端面的表面质量会严重影响光波导器件的先耦合封装性能,耦合封装前必须对波导器件端面进行抛光处理.目前聚合物光波导端面主要依靠传统研磨盘进行抛光处理,该工艺工序复杂、抛光效率低已成为制约聚合物波导器件应用的瓶颈.基于聚合物光波导材料优良的加工特性,通过对比实验提出了聚合物光波导的磁流变端面抛光工艺.采用5μm、0.5μm和1 μm粒径的氧化铈抛光粉分别配制研磨盘抛光液及磁流变抛光液对3mm×3mm聚合物光波导端面进行抛光实验,发现磁流变加工对聚合物光波导端面进行一次2min光栅扫描抛光就具有比传统研磨盘约3h精、粗抛光较好的端面质量.经过白光干涉仪测量,磁流变抛光后光波导端面表面粗糙度的均方根值达到了2.6 nm,传统端面抛光端面粗糙度均方根值为128.7 nm.通过自动对准耦合平台测试,结果显示通过磁流变端面抛光的光波导的插入损耗由抛光前的32.7 dB降低到了17.8 dB.磁流变抛光方法可以对聚合物光波导端面进行快速、高性能的抛光,在光波导应用领域具有非常广阔的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴宇列	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	23	224	7.0	14.0
2	刘勇	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	14	58	5.0	7.0
3	彭文强	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	5	19	2.0	4.0
4	冯宗杰	国防科学技术大学机电工程与自动化学院	2	5	2.0	2.0