氮化硅陶瓷的低温常压烧结及其力学性能

• 作者: 李家亮 牛金叶 陈斐
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅陶瓷 低温常压烧结 AlPO4
• 年，卷（期）: 2011,（6）
• 所属期刊栏目: 专题论文
• 页码范围: 1309-1313
• 分类号: TB34
• 字数: 3420字
• 语种: 中文

摘要

本文采用氧化镁(MgO)和磷酸铝(AlPO4)为烧结助剂,利用常压烧结工艺于1600℃制备了以α相为主相的氮化硅( Si3N4)陶瓷材料.利用XRD和SEM等对其物相组成和显微结构进行了表征,并分析烧结助剂含量对材料致密度的影响,研究氮化硅陶瓷的致密度与其力学性能之间的关系.结果表明:当AlPO4含量为20wt％ ～ 30wt％时,氮化硅陶瓷的致密度可达90％以上,抗弯强度为250～320 MPa.AlPO4在Si3N4陶瓷烧结中对提高其致密度与力学性能起到了重要的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈斐	武汉理工大学特种功能材料技术教育部重点实验室	24	161	7.0	11.0
2	李家亮	山东理工大学化工学院	12	125	5.0	11.0
3	牛金叶	山东理工大学化工学院	13	130	5.0	11.0