合成温度对聚铝硅氮烷的结构和陶瓷化过程的影响

• 作者: 张跃 李松
• 来源期刊: 无机化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 合成 聚铝硅氮烷 结构 热解
• 年，卷（期）: 2011,（5）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 943-950
• 分类号: O614.3+1|TQ174.1
• 语种: 中文

摘要

采用聚甲基乙烯基硅氮烷与异丙醇铝在90、100和120℃下反应分别合成出Si/Al物质的量的比为3的聚铝硅氮烷.利用红外(FTIR)和核磁(NMR)对前驱体结构进行表征.结果表明:Al-N键的红外振动强度(1450 cm-1)和核磁铝谱中的(Al)ON2(8ppm)及AlO2N(-1 ppm)基团的强度随合成温度的增加而增加.反应温度越高,形成的A1-N键就越多.这个脱氢耦合合成过程可能是一个三级反应过程,而在最高温120℃下所合成的聚铝硅氮烷的结构最复杂.前驱体的裂解过程通过耦合热重/差热分析(TG/DTA)、FTIR和气相色谱(GC)进行研究.合成温度对陶瓷化过程和陶瓷产率并没有明显的影响.根据DTA曲线可知,475℃发生进一步的交联.另外,GC数据表明裂解时所释放的气体为低分子量硅氮烷、CH4、C2H4、H2和NH3.根据XRD和SEM可知,1 200℃裂解后产物为均匀的非晶相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李松	空天材料与服役教育部重点实验室北京航空航天大学材料科学与工程学院	7	9	2.0	3.0
5	张跃	空天材料与服役教育部重点实验室北京航空航天大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0