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摘要:
不同的曝光方式适应不同的曝光工艺,对接触接近式曝光机的曝光方式进行了研究,分析了不同曝光方式适用的场合。并给出了一个通过改进曝光方式实现曝光工艺的成功实例,进一步证明了将产品生产工艺知识融入到半导体设备设计研发过程中的必要性。
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文献信息
篇名 接触接近式曝光机曝光方式浅析及实例
来源期刊 电子工业专用设备 学科 工学
关键词 曝光机 曝光方式 曝光工艺 必要性
年,卷(期) 2012,(6) 所属期刊栏目 光刻技术与设各
研究方向 页码范围 24-25,30
页数 3页 分类号 TN305.7
字数 1842字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.06.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周庆奎 中国电子科技集团公司第四十五研究所 5 11 2.0 3.0
2 李霖 中国电子科技集团公司第四十五研究所 5 12 2.0 3.0
3 宫晨 中国电子科技集团公司第四十五研究所 7 10 2.0 3.0
传播情况
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
曝光机
曝光方式
曝光工艺
必要性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工业专用设备
双月刊
1004-4507
62-1077/TN
大16开
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
1971
chi
出版文献量(篇)
3731
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31
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10002
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