SiCl4锌还原异相反应机理的研究

• 作者: 宋东明 崔焱 李荣兴 林艳 谢刚
• 来源期刊: 昆明理工大学学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 多晶硅 密度泛函理论 锌还原 反应机理
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 有色金属冶金科学与技术
• 页码范围: 13-18
• 页数: 6页
• 分类号: O641
• 字数: 2834字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-855x.2012.03.003

摘要

通过MP2/6-311G(d,p)方法,计算并得到了SiCl4锌还原各反应通道上各驻点的几何构型、振动频率和能量.根据密度泛函理论,采用广义密度梯度近似和总体能量平面波赝势方法结合周期性平板模型,研究了反应驻点在Si(l00)面上的吸附、解离及锌还原过程.结果表明,衬底硅参与SiCl4锌还原反应,SiCl4易在顶位吸附解离成SiCl3扣Cl；当硅基表面有Cl自由基吸附时,Zn或ZnCl更倾向于与Cl结合,而不是还原SiCln(1～3).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢刚	云南冶金集团总公司技术中心	34	205	8.0	12.0
2	李荣兴	昆明理工大学冶金与能源工程学院	67	346	11.0	14.0
3	林艳	昆明理工大学冶金与能源工程学院	17	29	4.0	4.0
4	宋东明	昆明理工大学冶金与能源工程学院	7	33	3.0	5.0
5	崔焱	云南冶金集团总公司技术中心	3	3	1.0	1.0