多晶硅还原炉进气中添加SiCl4、SiH2Cl2工艺进展

• 作者: 梅艳 贾曦 邓茹
• 来源期刊: 云南化工
• 学科: 工学
• 关键词: 四氯化硅 二氯二氢硅 环保 经济性 反歧化
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 57-59
• 页数: 3页
• 分类号: TF89
• 字数: 2276字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-275X.2018.06.025

摘要

多晶硅产能近几年迅速扩张,副产物四氯化硅(SiCl4,简写STC)和二氯二氢硅(SiH2Cl2,简写DCS)随之迅速增加.出于环境保护和生产经济性考虑,需对STC和DCS进行回收处理.对于STC的处理,冷氢化工艺应用日益广泛;同时,在还原炉进气中添加STC的研究也展示了良好前景.对于二氯二氢硅的处理,研究普遍采用反歧化法,使DCS和STC反应,生成三氯氢硅(SiHCl3,简写TCS),重新进入还原生产,循环利用.从国内外相关技术研究看,可以在还原炉进气中适量添加STC或DCS,使STC或DCS转化成TCS,从而充分利用物料,降低回收处理系统负荷,达到节能降耗环保安全的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贾曦	乐山职业技术学院新能源工程系	25	22	4.0	4.0
2	梅艳	乐山职业技术学院新能源工程系	24	12	3.0	3.0
3	邓茹	乐山职业技术学院新能源工程系	10	3	1.0	1.0