自适应模拟退火遗传算法在薄膜厚度及光学常数反演中的应用

• 作者: 倪婷 荆龙康 蒋玉蓉
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 光学常数 透过率曲线 Cauchy色散模型 自适应模拟退火遗传算法
• 年，卷（期）: 2012,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 218-222
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文

摘要

准确的测量薄膜的厚度和光学常数,在薄膜的制备、研究和应用中都是十分重要的.借助Cauchy色散模型,通过薄膜透过率测量曲线,用改进的自适应模拟退火遗传算法对透过率曲线进行全光谱拟合,从而反演得到薄膜的厚度和光学常数.对由电子束蒸发制备的TiO2单层膜和SiO2/TiO2双层膜的厚度和光学常数进行了测量计算.实验结果表明,计算得到的光学参数与实测结果相一致,厚度误差小于2nm,在560nm波长处折射率误差小于0.03.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋玉蓉	北京理工大学光电学院	23	108	6.0	9.0
2	倪婷	北京理工大学光电学院	2	9	2.0	2.0
3	荆龙康	北京理工大学光电学院	1	7	1.0	1.0