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摘要:
研究了以乙醛酸为还原剂的化学镀铜工艺、镀层结构和形貌.其镀液组成和操作条件为:28.0 g/L CuSO4·5H2O,44.0 g/L EDTA-2Na,10.0 mg/L α,α'-联吡啶,10.0 mg/L亚铁氰化钾,9.2g/L乙醛酸,pH为11.5 ~12.5,θ为40 ~ 50℃.实验结果表明,化学镀铜溶液较稳定;镀液温度和硫酸铜质量浓度提高,铜沉积速率增大;较高的镀液温度下,化学镀铜反应的活化能较低,镀液稳定性下降;镀液pH在11.5~12.5可获得较好的铜镀层;随乙醛酸和络合剂质量浓度提高,铜沉积速率变化不大,但过量的乙醛酸导致镀液的稳定性降低;铜镀层为面心立方混晶结构,呈光亮的粉红色块状形貌,有较高的韧性.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 乙醛酸化学镀铜工艺
来源期刊 电镀与精饰 学科 工学
关键词 化学镀铜 乙醛酸 镀液稳定性
年,卷(期) 2012,(3) 所属期刊栏目 论文
研究方向 页码范围 1-5
页数 分类号 TQ153.14
字数 2283字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3849.2012.03.001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨防祖 厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室 57 701 16.0 23.0
2 周绍民 厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室 47 624 15.0 22.0
3 姚光华 厦门大学化学化工学院固体表面物理化学国家重点实验室 5 51 5.0 5.0
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化学镀铜
乙醛酸
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研究起点
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期刊影响力
电镀与精饰
月刊
1001-3849
12-1096/TG
大16开
天津市河东区新开路美福园2号楼1门102
18-145
1973
chi
出版文献量(篇)
2880
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17
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