CMP系统真空供给系统设计

• 作者: 李伟 柳滨 陈波 高文泉
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 真空供给系统 温度自动控制 ANSYS Workbench 模态分析
• 年，卷（期）: 2012,（3）
• 所属期刊栏目: 材料制备与设备
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 分类号: TN948.43
• 字数: 1382字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.03.013

摘要

研制了一套化学机械抛光机（CMP）专用的真空供给系统，主要由水环式真空泵、真空泵箱体、真空储气罐和水箱（汽水分离器）组成及控制模块组成。设计了水箱供水控制模块、水箱温度自动控制模块，通过控制水箱水温进而控制真空泵工作液的温度，保证真空度要求，同时也达到节约用水、降低能耗的要求。采用有限元分析软件ANSYS Workbench对真空供给系统机架进行了模态分析，研究机架的振型、固有频率，从而在结构设计上避免共振。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李伟		1	1	1.0	1.0
2	高文泉		1	1	1.0	1.0
3	柳滨		1	1	1.0	1.0
4	陈波		1	1	1.0	1.0