Si掺杂Ag基超分辨薄膜读出性能研究

• 作者: 施宏仁 耿永友 赵石磊
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光存储 超分辨薄膜 共溅 载噪比 稳定性
• 年，卷（期）: 2012,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 297-302
• 页数: 6页
• 分类号: TQ591
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/AOS201232.0631004

摘要

超分辨薄膜是一种能够实现突破光学衍射极限的功能薄膜,它在超分辨近场光存储技术中起到至关重要的作用.采用磁控溅射共溅的方式制备了Ag掺杂一定量Si的超分辨复合薄膜,测试了其作为掩膜层的超分辨光盘读出性能,并获得了最佳的薄膜制备条件,即当Ag溅射功率为55W,Si为95W,溅射时间为80s,薄膜厚度为39nm时,超分辨光盘的读出信号载噪比(CNR)最高为28dB.用X射线光电子能谱测量了上述薄膜的组成,用扫描电子显微镜观察了薄膜微区形貌,并用椭圆偏振光谱仪测量了薄膜的光学常数和厚度.超分辨复合薄膜的读出机理可以用Ag的散射型机理解释.光盘在持续读出10万次以后读出信号基本没有下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	耿永友	中国科学院上海光学精密机械研究所	15	99	4.0	9.0
2	施宏仁	中国科学院上海光学精密机械研究所	6	13	2.0	3.0
3	赵石磊	中国科学院上海光学精密机械研究所	1	0	0.0	0.0