热处理对脉冲激光沉积羟基磷灰石薄膜组织和性能的影响

• 作者: 吴健 杨森 许立立
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 脉冲激光沉积 羟基磷灰石 热处理 结晶度
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 183-187
• 页数: 5页
• 分类号: TB34|TN249
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201239.0507003

摘要

利用脉冲激光沉积技术在Ti6Al4V(TC4)合金表面制备了羟基磷灰石(HA)薄膜,研究了退火温度对薄膜组织和性能的影响.采用扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)、X射线衍射(XRD)和傅里叶红外光谱(FTIR)等分析手段对热处理前后薄膜的表面形貌、成分和组织结构进行了分析；采用轮廓仪、接触角测量仪分别对热处理前后薄膜的表面粗糙度和润湿性进行了测量.实验结果表明,利用脉冲激光沉积技术制备的HA薄膜致密、无缺陷,主要由非晶相组成.热处理后的薄膜结晶度提高、表面粗糙度增大,Ca/P比更接近于HA,具有更好的表面亲水性.但是过高的热处理温度(700℃)会导致薄膜中微裂纹的出现.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨森		15	7	1.0	2.0
2	吴健		5	11	2.0	3.0
3	许立立		1	0	0.0	0.0