ZEMAX软件在曝光光源设计中的应用

• 作者: 蒲继祖
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 曝光光源 ZEMAX软件 计算机辅助设计 鬼点
• 年，卷（期）: 2012,（8）
• 所属期刊栏目: 光刻技术与设备
• 页码范围: 40-43
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 1727字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2012.08.009

摘要

以光学设计软件ZEMAX为依托,结合曝光光源设计思路,并以实例展示设计方法和描述它的实用性,利用ZEMAX计算机辅助设计分析了曝光光源的鬼点。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒲继祖	中国电子科技集团公司第四十五研究所	5	0	0.0	0.0