光纤激光诱导背面干法刻蚀制备二元衍射光学元件

• 作者: 何超 周伟平 申雪飞 陈继民
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 激光刻蚀 微纳加工 二元衍射光学元件 能量密度阈值
• 年，卷（期）: 2012,（1）
• 所属期刊栏目: 现代应用光学
• 页码范围: 31-37
• 分类号: TN305.7|O436.1
• 字数: 3061字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20122001.0031

摘要

为了降低激光直接辐照透明介电材料的表面加工粗糙度和激光能量密度刻蚀阈值,提高微光学元件的产出率,介绍了一种用固体介质作吸收层,激光直接作用在透明光学材料上进行微纳加工的激光诱导背面干法刻蚀工艺.首先,选用95氧化铝陶瓷作固体材料辅助吸收层,应用中心波长为1 064 nm的掺镱光纤激光器,在3.2 mm厚的熔融石英玻璃表面刻蚀了亚微米尺度的二维周期性光栅结构.然后,对刻蚀参数进行拟合并探讨了激光能量密度对刻蚀参数的影响.最后,观察该二元光学元件的衍射花样图形并讨论其衍射特性.实验制备了槽深为4.2 μm,槽底均方根粗糙度小于40nm,光栅常数为25μm的二维微透射光栅,其刻蚀阈值低于7.66 J/cm2.结果表明,应用该工艺制备二维透射光栅,降低了激光刻蚀透明材料的密度阈值及加工结构的表面粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈继民	北京工业大学激光工程研究院	53	447	11.0	18.0
2	何超	北京工业大学激光工程研究院	13	43	4.0	5.0
3	周伟平	北京工业大学激光工程研究院	3	11	2.0	3.0
4	申雪飞	北京工业大学激光工程研究院	2	8	1.0	2.0