铒、钪膜中离子注入氦的热解析行为

• 作者: 周晓松 彭述明 杨莉 申华海 祖小涛 龙兴贵
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 化学
• 关键词: 铒膜 钪膜 氦离子注入 热解析 氦泡
• 年，卷（期）: 2012,（5）
• 所属期刊栏目: 粒子束技术
• 页码范围: 1169-1172
• 分类号: TL2|O642
• 字数: 2522字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20122405.1169

摘要

采用热解析法初步研究了铒、钪膜中离子注入氦的热解析行为.研究结果表明:同种元素铒中离子注入氦的热释放峰位相同,但膜的致密性将影响氦的释放量,结构疏松的膜中存在的孔洞是氦的快速释放通道；在相同注入剂量和能量条件下,铒、钪膜中注入氦的热释放峰位不同,这可能与氦在铒、钪膜中的深度分布及膜的致密性有关,利用质子增强背散射法测量出能量为60keV的4He+在铒、钪膜中的注入深度分别为210,308nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙兴贵	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	123	496	10.0	16.0
2	彭述明	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	97	341	10.0	14.0
3	祖小涛	电子科技大学物理电子学院	111	627	12.0	17.0
4	周晓松	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	39	89	5.0	6.0
5	杨莉	电子科技大学物理电子学院	20	70	4.0	7.0
6	申华海	电子科技大学物理电子学院	2	4	2.0	2.0