γ-Al2O3表面结构的红外光谱研究

• 作者: 凌凤香 吴洪新 崔晓莉 张玉涵 王少军 赵国利
• 来源期刊: 当代化工
• 学科: 工学
• 关键词: 红外光谱 γ-Al2O3 羟基 L酸性位
• 年，卷（期）: 2012,（7）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 661-663,667
• 分类号: TE624.4
• 字数: 2848字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-0460.2012.07.001

摘要

采用原位红外光谱技术对不同温度(100～500℃)脱水γ-Al2O3的表面羟基进行了研究,同时应用吡啶吸附原位红外光谱法对γ-Al2O3表面上路易斯酸(L酸)进行了研究.实验结果表明,在升高脱水温度的过程中,在γ-Al2O3表面共出现五个羟基谱带,分别为3785,3762,3725,3697,3674 cm-1.在γ-Al2O3表面上存在三种L酸性位,分别对应于五配位(酸性最弱)、四配位(酸性中等)和三配位的Al3+(酸性最强).这三种Al3+的数量随脱水温度升高而增大,而且γ-Al2O3表面上的L酸性位均有羟基与其相连.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	凌凤香		70	320	11.0	13.0
2	王少军		28	83	5.0	7.0
3	吴洪新		4	23	3.0	4.0
4	赵国利		8	21	3.0	4.0
5	崔晓莉		1	4	1.0	1.0
6	张玉涵		3	15	3.0	3.0